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比利时纳米电子创新中心imec和日本化学公司三井化学宣布建立战略合作伙伴关系，将下一代EUV半导体光刻系统的关键组件商业化。 此次合作的重点是EUV膜——一种薄而透明的膜，可以保护EUV光掩膜在生产过程中免受潜在污染。imec和三井的合作旨在将基于碳纳米管的新薄膜设计在2025-2026年内投入商业生产，这样可以和提高EUV光刻光源功率的计划同步。 薄膜保护 由于需要在半导体集成电路上以更小的尺寸封装更多的特性，EUV光刻技术得到了爆炸式的发展，从而使摩尔定律尽可能长久地发挥作用。EUV光刻设